Huszánk, RóbertAhmed, Emad Nady Saad2022-03-032022-03-032022http://hdl.handle.net/2437/329065Célunk az volt, hogy olyan szerkezeteket, terveket vagy bármilyen módot találjunk, ami a lamináris áramlásban zavart okoz, a keverés hatékonyabbá tétele érdekében. Ez a tanulmány magában foglalja a számítógépes szimulációt, különböző mikrofluidikus eszközök tervezését és gyártását beágyazott mikrostruktúrákkal vagy anélkül. A protonsugaras litográfia (közvetlen írástechnika fókuszált, kevés MeV protonnyalábot használó mikro- és nanoméretű struktúrák létrehozására) és a hagyományos UV-litográfia gyártási technikák összekapcsolásával a poli(dimetil-sziloxán) PDMS mikrostruktúrákat beépítették a PDMS mikroeszközökbe, ez egy újszerű alkotási módszer. Ez lehetővé teszi mikrostruktúrák és mikroeszközök létrehozását ugyanabból az anyagból, ami nem csak előnyös, de bizonyos alkalmazásokban (pl. sejtszétválasztás stb.) szükséges is. Our aim was to find structures, designs or any way to induce perturbation in the laminar flow, to make the mixing more efficient. This study includes the computer simulation, the design and manufacturing of different microfluidic devices with or without embedded microstructures. By coupling proton beam lithography (direct writing technique utilizing focused, few MeV proton beams, to create micro- and nanoscale structures) and conventional UV lithography fabrication techniques, Poly(dimethyl-siloxane) PDMS microstructures were incorporated into PDMS micro-devices, as a novel creation method. This allows microstructures and microdevices to be created from the same material, which is not only beneficial but also necessary in some applications (e.g., cell separation, etc.).129enPolymer irradiationProton beam lithographyUV- lithographyCDF simulation (COMSOL Multiphysics)Microfluidic passive mixersPolimer besugárzásprotonsugaras litográfiaUV-litográfiaCDF szimuláció (COMSOL Multiphysics)Mikrofluidikus passzív keverőkFizikai tudományokTermészettudományok