English
Magyar
Bejelentkezés
Központi bejelentkeztetés
Kérjük bejelentkezéshez használja az egyetemi hálózati azonosítóját és jelszavát (eduID)!
Kategóriák és gyűjtemények
Böngészés
English
Magyar
Bejelentkezés
Központi bejelentkeztetés
Kérjük bejelentkezéshez használja az egyetemi hálózati azonosítóját és jelszavát (eduID)!
Digitális könyvtár
Hallgatói dolgozatok
PhD dolgozatok
Publikációk
Főoldal
Statisztikák
Statisztika a következő hatókörre szűkítve: Grain boundary diffusion of Si in polycrystalline copper film
Betöltés ...