A szakdolgozati munkám során azt a célt tűztem ki, hogy megvizsgálom a fény által létrehozott felületi struktúra periódusának, a kiinduló réteg vastagságnak és a megvilágítás idejének hatását a holografikus rács optikai paramétereire és annak amplitúdójára. A kapott eredmények alapján optimalizálható az íráshoz szükséges réteg összetétele, vastagsága, a megvilágítás ideje. A felületváltozás nagyságát, a diffrakciós hatásfok változását és a fotoindukált sötétedés nagyságát vizsgáltam. A kialakult felületi struktúrák nagyságát atomerő-mikroszkóppal vizsgáltuk. Az optikai paraméterek változását a mintán átmenő fény intenzitásának detektálásával mértem.