Határfelületek nanoskálájú eltolódása szilárdtest-reakciókban
dc.contributor.advisor | Beke, Dezső | |
dc.contributor.author | Lovász, Koppány Botond | |
dc.contributor.department | DE--TEK--Természettudományi és Technológiai Kar--Fizikai Intézet | hu_HU |
dc.date.accessioned | 2013-05-22T11:41:09Z | |
dc.date.available | 2013-05-22T11:41:09Z | |
dc.date.created | 2013-05-13 | |
dc.date.issued | 2013-05-22T11:41:09Z | |
dc.description.abstract | A tranzisztorgyártásban fémes kontaktus kialakítására használt Ni-aSi rendszer növekedési kinetikáját vizsgálja a dolgozatom. Hőkezelés hatására az aSi és Ni(Pt) rétegek határán kialakul egy nikkel-szilicid réteg. A hőkezelés idejének ismeretében, a kialakult réteg vastagságának mérésével meghatározható, hogy a réteg kialakulása közben lejátszódó folyamat diffúziókontrollált, vagy reakciókontrollált. Ezáltal a növekedési kinetikáról kapunk képet. A rétegvastagságot SNMS és profilométer segítségével állapítottuk meg. | hu_HU |
dc.description.corrector | gj | |
dc.description.course | Fizika | hu_HU |
dc.description.degree | BSc/BA | hu_HU |
dc.format.extent | 34 | hu_HU |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2437/168898 | |
dc.language.iso | hu | hu_HU |
dc.subject | szilárdtest | hu_HU |
dc.subject | diffúzió | hu_HU |
dc.subject | határfelület | hu_HU |
dc.subject | eltolódás | hu_HU |
dc.subject | vékonyréteg | hu_HU |
dc.subject.dspace | DEENK Témalista::Fizika::Szilárdtestfizika | hu_HU |
dc.title | Határfelületek nanoskálájú eltolódása szilárdtest-reakciókban | hu_HU |