Antigén prezentációban szerepet játszó nikkel-hisztidin kötődés jellemzése FT-SPR módszerrel

A tétel rövid nézete
dc.contributor.advisorSzalóki, Melinda
dc.contributor.advisordeptDebreceni Egyetem::Fogorvostudományi Kar::Fogpótlástani Tanszékhu_HU
dc.contributor.authorKustos, Laura
dc.contributor.departmentDE--Fogorvostudományi Karhu_HU
dc.date.accessioned2016-10-17T11:17:06Z
dc.date.available2016-10-17T11:17:06Z
dc.date.created2015
dc.description.abstractAz allergiás megbetegedések száma évről évre növekvő tendenciát mutat. A fogászati anyagok sokfélesége miatt, jellemzően az alkalmazott polimerekkel és fémekkel szemben alakulnak ki túlérzékenységi reakciók. Irodalmi adatokból ismert, hogy a hisztidin (His) gazdag hisztatin fehérjecsalád tagjai képesek a nikkel (Ni) megkötésére, ilyen módon szerepet tulajdonítva a Ni allergia kialakulásában. A biomolekuláris kölcsönhatások feltérképezésére többek között a felületi plazmon rezonancia (SPR) elvén alapuló bioérzékelési technikák adhatnak lehetőséget. Kutatási tevékenységünk célja a His bázikus aminosav kötődésének vizsgálata a koncentráció és a pH tartomány figyelembe vételével felületmódosított arany (Au) SPR chipeken, valamint a His-Ni kötődés kinetikai kapcsolatának nyomon követése Fourier-Transzformációs Felületi Plazmon Rezonancia (FT-SPR) Spektroszkóp alkalmazásával. A His koncentrációja 4•10-3 mol/dm3 és 2•10-2 mol/dm3 között változott desztillált vízben és foszfát pufferben (PBS) savas (pH=3), semleges (pH=7) és lúgos pH (pH=10) tartományokban, 8-amino-1-oktántiollal (AOT) és 6-merkaptohexánsavval (MHA) módosított SPR Au chip felületén. A kinetikai vizsgálatok a desztillált vizes His oldatsor és 2,2•10-3 mol/dm3 nikkel(II)-klorid molekuláris kapcsolatának valós idejű megismerésére irányultak. Az FT-SPR platformon kapott eredmények értelmében, valamint a felvett kalibrációs egyenesek alapján, a rezonancia hullámszám eltolódásának mértéke egyenes arányosságot mutatott a His különböző koncentrációjú oldataival. A pH változtatásával az aminosav sav-bázis jellegből adódó protonáltság-deprotonáltság befolyásolta az affinitás mértékét az Au chip felületén létrehozott önszerveződő monomolekuláris rétegekhez, a felület jellege ‒ AOT esetén amino, illetve MHA esetén karboxil ‒ hatással volt a His kötődésére. A kinetikai vizsgálatok alapján kapott ismeretek tekintetében kijelenthető, hogy az FT-SPR Spektroszkópia affinitási ismeretek és kvantitatív meghatározásokon túl, segítséget nyújthat a fogászati anyagokkal szemben kialakuló allergia mechanizmusának megértésében.hu_HU
dc.description.correctorgj
dc.description.coursefogorvoshu_HU
dc.description.courseactnappalihu_HU
dc.description.courselangmagyarhu_HU
dc.description.degreeegyetemihu_HU
dc.format.extent41hu_HU
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2437/231022
dc.language.isohuhu_HU
dc.subjectnikkelhu_HU
dc.subjecthisztidin
dc.subjectFT-SPR
dc.subjectfogászati allergének
dc.subjectHisztatin-5
dc.subject.dspaceDEENK Témalista::Orvostudomány::Fogorvostudományhu_HU
dc.titleAntigén prezentációban szerepet játszó nikkel-hisztidin kötődés jellemzése FT-SPR módszerrelhu_HU
dc.title.translatedAnalysis of antigen presenting nickel-histidine binding by FT-SPR methodhu_HU
Fájlok
Gyűjtemények
Hallgatói dolgozatok (Fogorvostudományi Kar)