<link rel="stylesheet" href="styles.f3b1fba60ec7970c.css">

Nanoscale investigation of shift of individual interfaces in temperature induced processes of Ni-Si by secondary neutral mass

Absztrakt

Leírás

Kulcsszavak

Forrás

Applied Physics Letters . -97 (2010), p. 233103-1 - 233103-3. -Appl. Phys. Lett. - 0003-6951

Jóváhagyás

Áttekintés

Kiegészítve

Hivatkozik rá

Jogok és engedélyezések

open access journal
American Institute of Physics