Oxidation and reduction processes in Ni/Cu/Cr/Si(100) thin films under low-energy ion irradiation

A tétel rövid nézete
dc.contributor.authorKruhlov, Ivan O.
dc.contributor.authorVladymyrskyi, Igor A.
dc.contributor.authorDubikovskyi, Oleksandr
dc.contributor.authorSidorenko, Sergey I.
dc.contributor.authorEbisu, Toshihiro
dc.contributor.authorKato, Kenichi
dc.contributor.authorSakata, Osami
dc.contributor.authorIshikawa, Testuya
dc.contributor.authorIguchi, Yusuke
dc.contributor.authorLanger, Gábor Antal
dc.contributor.authorErdélyi, Zoltán
dc.contributor.authorVoloshko, Svetlana M.
dc.date.accessioned2022-10-11T07:24:48Z
dc.date.available2022-10-11T07:24:48Z
dc.date.issued2020
dc.date.oa2022-10-11
dc.date.pasync2022-11-15T11:54:54Z
dc.date.updated2022-10-11T07:24:48Z
dc.description.correctorSZKM
dc.identifier.citationMaterials Research Express. -6 : 12 (2020), p. 126431. -Mater. Res. Express. - 2053-1591
dc.identifier.doihttp://dx.doi.org/10.1088/2053-1591/ab6382
dc.identifier.issn2053-1591
dc.identifier.opachttps://ebib.lib.unideb.hu/ebib/CorvinaWeb?action=cclfind&resultview=long&ccltext=idno+BIBFORM103996
dc.identifier.scopus85082528456
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/2437/337513
dc.identifier.urlhttps://iopscience.iop.org/article/10.1088/2053-1591/ab6382
dc.identifier.wos000507283500001
dc.languageeng
dc.rights.accessOpen access journal
dc.rights.ownerSzerző
dc.subject.mabTermészettudományok
dc.subject.mabFizikai tudományok
dc.tenderGINOP-2.3.2-15-2016-00041
dc.titleOxidation and reduction processes in Ni/Cu/Cr/Si(100) thin films under low-energy ion irradiation
dc.typefolyóiratcikk
dc.typeidegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
Fájlok
Eredeti köteg (ORIGINAL bundle)
Megjelenítve 1 - 1 (Összesen 1)
Nincs kép
Név:
FILE_UP_1_Oxidation and reduction processes in Ni_Cu_Cr_Si(100) thin films under low-energy ion irradiation.pdf
Méret:
2.64 MB
Formátum:
Adobe Portable Document Format
Leírás:
Kiadói változat
Letöltés
Gyűjtemények
Publikációs Adatbázis