Transition from anomalous kinetics toward Fickian diffusion for Si dissolution in to amorphous Ge
Betöltés ...
Fájlok
Dátum
Folyóirat címe
Folyóirat ISSN
Kötet címe (évfolyam száma)
Kiadó
Absztrakt
Leírás
Kulcsszavak
Forrás
Applied Physics Letters. -92 : 14 (2008), p. 143104. -Appl. Phys. Lett. - 0003-6951
Hivatkozás
Gyűjtemények
Jóváhagyás
Áttekintés
Kiegészítve
Hivatkozik rá
Jogok és engedélyezések
open access journal
American Institute of Physics
American Institute of Physics