Transition from anomalous kinetics toward Fickian diffusion for Si dissolution in to amorphous Ge
Fájlok
Dátum
2008
Folyóirat címe
Folyóirat ISSN
Kötet címe (évfolyam száma)
Kiadó
Absztrakt
Leírás
Kulcsszavak
Természettudományok, Fizikai tudományok
Jogtulajdonos
American Institute of Physics
Jelzet
Egyéb azonosító
Forrás
Applied Physics Letters. -92 : 14 (2008), p. 143104. -Appl. Phys. Lett. - 0003-6951