Diffúzió vizsgálata vékonyrétegekben

A tétel rövid nézete
dc.contributor.advisorLanger, Gábor
dc.contributor.authorDiós, Sándor
dc.contributor.departmentDE--TEK--Természettudományi és Technológiai Kar--Fizikai Intézethu_HU
dc.date.accessioned2010-05-06T15:06:30Z
dc.date.available2010-05-06T15:06:30Z
dc.date.created2010
dc.date.issued2010-05-06T15:06:30Z
dc.description.abstractDiplomamunkám folyamán a MgO diffúziós barrier tulajdonságait vizsgáltam. Si/15nmMgO/50nmCu, valamint Si/MgO/Cu/ITO(indium-ónoxid) mintákat készítettem magnetronos porlasztással. . A különböző hőmérsékleten hőkezelt minták mélységi profilját szekunder neutrális tömegspektrometria (SNMS) segítségével mértem.hu_HU
dc.description.correctorgj
dc.description.courseFizikushu_HU
dc.description.degreerégi képzéshu_HU
dc.format.extent32hu_HU
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2437/95680
dc.language.isohuhu_HU
dc.subjectdiffúzióhu_HU
dc.subjectbarrierhu_HU
dc.subjectSNMShu_HU
dc.subject.dspaceDEENK Témalista::Fizika::Szilárdtestfizikahu_HU
dc.titleDiffúzió vizsgálata vékonyrétegekbenhu_HU
Fájlok
Gyűjtemények
Hallgatói dolgozatok (Természettudományi és Technológiai Kar)