Electron irradiation induced amorphous SiO2 formation at metal oxide/Si interface at room temperature; electron beam writing on interfaces

Absztrakt
Leírás
Kulcsszavak
Természettudományok, Fizikai tudományok
Jogtulajdonos
szerző
Jelzet
Egyéb azonosító
Forrás
Scientific Reports. -8 : 1 (2018), p. 1-7. -Sci. Rep. - 2045-2322
Támogatás