Interdiffusion in amorphous Si/Ge multilayers by Auger depth profiling technique
Betöltés ...
Dátum
Folyóirat címe
Folyóirat ISSN
Kötet címe (évfolyam száma)
Kiadó
Absztrakt
Leírás
Kulcsszavak
Forrás
Journal Of Applied Physics. -89 : 1 (2001), p. 804-806. -J. Appl. Phys. - 0021-8979
Hivatkozás
Gyűjtemények
Jóváhagyás
Áttekintés
Kiegészítve
Hivatkozik rá
Jogok és engedélyezések
open access journal (12h embargó)
szerző
szerző