Effect of process parameters on co-sputtered Al(1-x)ScxN layer`s properties: Morphology, crystal structure, strain, band gap, and piezoelectricity
Betöltés ...
Fájlok
Dátum
Folyóirat címe
Folyóirat ISSN
Kötet címe (évfolyam száma)
Kiadó
Absztrakt
Leírás
Kulcsszavak
Forrás
Materials Science In Semiconductor Processing. -169 (2024), p. 1-9. -(cikkazonosító)107902. -Mater. Sci. Semicond. Process. - 1369-8001
Hivatkozás
Gyűjtemények
Jóváhagyás
Áttekintés
Kiegészítve
Hivatkozik rá
Jogok és engedélyezések
open access article
szerzők
szerzők