Effect of process parameters on co-sputtered Al(1-x)ScxN layer`s properties: Morphology, crystal structure, strain, band gap, and piezoelectricity

A tétel rövid nézete
dc.contributor.authorKhánh, Nguyen Quoc
dc.contributor.authorHorváth, Zsolt Endre
dc.contributor.authorZolnai, Zsolt
dc.contributor.authorPetrik, Péter
dc.contributor.authorPósa, László
dc.contributor.authorVolk, János
dc.date.accessioned2024-03-13T10:56:14Z
dc.date.available2024-03-13T10:56:14Z
dc.date.issued2024
dc.date.oa2024-11-18
dc.date.pasync2024-03-14T00:06:45Z
dc.date.updated2024-03-13T10:56:14Z
dc.description.correctorLB
dc.identifier.citationMaterials Science In Semiconductor Processing. -169 (2024), p. 1-9. -Mater. Sci. Semicond. Process. - 1369-8001
dc.identifier.doihttp://dx.doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107902
dc.identifier.issn1369-8001
dc.identifier.opachttps://ebib.lib.unideb.hu/ebib/CorvinaWeb?action=cclfind&resultview=long&ccltext=idno+BIBFORM119411
dc.identifier.scopus85173804404
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/2437/367462
dc.identifier.urlhttps://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/S1369800123005954
dc.identifier.wos001101687300001
dc.languageeng
dc.rights.accessopen access article
dc.rights.ownerszerzők
dc.subject.mabTermészettudományok
dc.subject.mabFizikai tudományok
dc.titleEffect of process parameters on co-sputtered Al(1-x)ScxN layer`s properties: Morphology, crystal structure, strain, band gap, and piezoelectricity
dc.typefolyóiratcikk
dc.typeidegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
Fájlok
Eredeti köteg (ORIGINAL bundle)
Megjelenítve 1 - 1 (Összesen 1)
Nincs kép
Név:
FILE_UP_0_1-s2.0-S1369800123005954-main.pdf
Méret:
6.06 MB
Formátum:
Adobe Portable Document Format
Leírás:
Kiadói változat
Letöltés
Gyűjtemények
Publikációs Adatbázis