Elektronsugaraslitográfia megvalósítása új, folyadékfázisú poly(dimetilsziloxán) reziszt anyagban

A tétel rövid nézete
dc.contributor.advisorHuszánk, Róbert
dc.contributor.authorNémeth, Levente
dc.contributor.departmentDE--Természettudományi és Technológiai Kar--Fizikai Intézethu_HU
dc.date.accessioned2015-05-15T11:38:54Z
dc.date.available2015-05-15T11:38:54Z
dc.date.created2015-05-15
dc.description.abstractA dolgozat elkezdésekor a feladatom az elektronlitográfia alkalmazása volt PDMS polimerben. A kiépített litográfiai rendszer tesztelése, és működtetésének elsajátítása után egyrészt MonteCarlo szimulációval (CASINO program) megterveztem és kikísérleteztem, hogy milyen PDMS rétegvastagsággal kell dolgoznunk az elektronokkal való írás során, másrészt megterveztem milyen alakzatokat, milyen dózissal fogunk besugározni az anyagban történő elváltozások vizsgálatához.hu_HU
dc.description.correctorgj
dc.description.courseFizikahu_HU
dc.description.degreeBSc/BAhu_HU
dc.format.extent40hu_HU
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2437/213068
dc.language.isohuhu_HU
dc.subjectelektronlitográfiahu_HU
dc.subjectPDMS
dc.subject.dspaceDEENK Témalista::Fizikahu_HU
dc.titleElektronsugaraslitográfia megvalósítása új, folyadékfázisú poly(dimetilsziloxán) reziszt anyagbanhu_HU
Fájlok
Gyűjtemények
Hallgatói dolgozatok (Természettudományi és Technológiai Kar)