Electron-beam induced variation of surface profile in amorphous As20Se80 films

A tétel rövid nézete
dc.contributor.authorKaganovskii, Yuri S.
dc.contributor.authorTrunov, M. L.
dc.contributor.authorCserháti, Csaba
dc.contributor.authorLytvyn, P. M.
dc.contributor.authorBeke, Dezső László
dc.contributor.authorKökényesi, Sándor
dc.date.accessioned2014-05-19T07:04:03Z
dc.date.available2014-05-19T07:04:03Z
dc.date.issued2014
dc.date.pasync2020-06-04T00:30:19Z
dc.date.updated2020-06-04T00:30:19Z
dc.identifier.citationJournal Of Applied Physics. -115 : 18 (2014), p. 183512-1. -J. Appl. Phys. - 0021-8979
dc.identifier.doihttp://dx.doi.org/10.1063/1.4875838
dc.identifier.issn0021-8979
dc.identifier.opachttp://webpac.lib.unideb.hu:8082/ebib/CorvinaWeb?action=cclfind&resultview=long&ccltext=idno+BIBFORM052845hu
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2437/192598
dc.identifier.urlhttp://scitation.aip.org/content/aip/journal/jap/115/18/10.1063/1.4875838
dc.languageeng
dc.rights.accessopen access journal (12h embargó)
dc.rights.ownerszerző
dc.subject.mabTermészettudományok
dc.subject.mabFizikai tudományok
dc.tenderTÁMOP-4.2.2.A-11/1/KONV-2012-0036
dc.titleElectron-beam induced variation of surface profile in amorphous As20Se80 films
dc.typefolyóiratcikk
dc.typeidegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
Fájlok
Eredeti köteg (ORIGINAL bundle)
Megjelenítve 1 - 1 (Összesen 1)
Nem elérhető
Név:
file_up_JAP115_183512_1_2014.PDF
Méret:
1.2 MB
Formátum:
Adobe Portable Document Format
Leírás:
Kiadói változat
Letöltés
Gyűjtemények
Publikációs Adatbázis