Grain boundary diffusion of Si in polycrystalline copper film
dc.contributor.author | Bodnár, Eszter | |
dc.contributor.author | Takáts, Viktor | |
dc.contributor.author | Fodor, Tamás | |
dc.contributor.author | Hakl, József | |
dc.contributor.author | Kaganovskii, Yuri S. | |
dc.contributor.author | Yang, Guang | |
dc.contributor.author | Yao, Xiaogang | |
dc.contributor.author | Vad, Kálmán | |
dc.date.accessioned | 2024-02-22T22:39:41Z | |
dc.date.available | 2024-02-22T22:39:41Z | |
dc.date.issued | 2022 | |
dc.date.oa | 2024-02-23 | |
dc.date.pasync | 2024-02-24T00:06:56Z | |
dc.date.updated | 2024-02-22T22:39:41Z | |
dc.description.corrector | SZKM | |
dc.identifier.citation | Vacuum. -203 (2022), p.1-5. -Vacuum. - 0042-207X | |
dc.identifier.doi | http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.111260 | |
dc.identifier.issn | 0042-207X | |
dc.identifier.opac | https://ebib.lib.unideb.hu/ebib/CorvinaWeb?action=cclfind&resultview=long&ccltext=idno+BIBFORM118843 | |
dc.identifier.scopus | 85132791850 | |
dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/2437/366795 | |
dc.identifier.url | https://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/S0042207X22003840 | |
dc.identifier.wos | 000819305900002 | |
dc.language | eng | |
dc.rights.access | open access article | |
dc.rights.owner | Szerző | |
dc.subject.mab | Természettudományok | |
dc.subject.mab | Fizikai tudományok | |
dc.tender | Egyéb TKP2021-NKTA-42 | |
dc.tender | Egyéb 2019-2.1.7-ERANET-2021-00021 | |
dc.title | Grain boundary diffusion of Si in polycrystalline copper film | |
dc.type | folyóiratcikk | |
dc.type | idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban |
Fájlok
Eredeti köteg (ORIGINAL bundle)
1 - 1 (Összesen 1)
Nincs kép
- Név:
- FILE_UP_0_1-s2.0-S0042207X22003840-main.pdf
- Méret:
- 2.54 MB
- Formátum:
- Adobe Portable Document Format
- Leírás:
- Kiadói változat